CMOS圖像傳感器(CIS)技術(shù)的創(chuàng)新不斷改進(jìn)數(shù)字成像領(lǐng)域。雖然需求是由智能手機(jī)制造商通過(guò)使用增強(qiáng)的相機(jī)功能來(lái)使其設(shè)備在競(jìng)爭(zhēng)中脫穎而出，但汽車(chē)、安全、醫(yī)療和制造等領(lǐng)域的應(yīng)用市場(chǎng)也在增長(zhǎng)。

　微小的CMOS圖像傳感器在功能上堪比人眼的視網(wǎng)膜，現(xiàn)在則堪比以前只有大型昂貴的攝像設(shè)備才能完成的工作。此外，與智能手機(jī)相比，新應(yīng)用更加強(qiáng)調(diào)推廣CIS技術(shù)的必要性。因此，CIS技術(shù)現(xiàn)在不僅可以為人眼捕捉圖像，還可以捕捉數(shù)據(jù)來(lái)支持大量新的用例，從自動(dòng)駕駛汽車(chē)和虛擬現(xiàn)實(shí)(VR)到下一代醫(yī)療成像和高科技監(jiān)控系統(tǒng)。

　生產(chǎn)如此復(fù)雜的CMOS圖像傳感器需要特定的制造技術(shù)，這些技術(shù)可分為五類(lèi)。

　1、深度PD形成工藝技術(shù)

　消費(fèi)者對(duì)增強(qiáng)圖像質(zhì)量的持續(xù)需求引發(fā)了關(guān)于如何提高移動(dòng)CIS像素密度和分辨率的競(jìng)爭(zhēng)，這反過(guò)來(lái)又進(jìn)一步加速了CIS工藝技術(shù)的發(fā)展。為此，需要進(jìn)一步減小像素尺寸，以在相同尺寸的芯片上容納更多的像素。

　2、像素到像素隔離工藝技術(shù)

　對(duì)于高清CIS，將像素彼此隔離的技術(shù)至關(guān)重要。芯片制造商使用不同的隔離技術(shù)。使用欠發(fā)達(dá)的可能會(huì)引入圖像缺陷，例如顏色混合和顏色擴(kuò)散。

　3、彩色濾光片陣列（CFA）工藝技術(shù)

　彩色濾光片陣列（CFA）是CIS領(lǐng)域的工藝，在半導(dǎo)體存儲(chǔ)器工藝中并不常見(jiàn)。CFA工藝通常包括一個(gè)濾色器(CF)，可將入射光過(guò)濾成每個(gè)波長(zhǎng)范圍的紅色、綠色和藍(lán)色，以及一個(gè)可提高聚光效率的微透鏡(ML)。要?jiǎng)?chuàng)建可靠的圖像質(zhì)量，重要的是評(píng)估R/G/B彩色材料并開(kāi)發(fā)優(yōu)化形狀和厚度等參數(shù)的技術(shù)。

　4、晶圓堆疊工藝技術(shù)

　晶圓堆疊，顧名思義，就是將兩塊晶圓貼合在一起，是生產(chǎn)高像素、高清CIS產(chǎn)品的技術(shù)。對(duì)于高像素CIS產(chǎn)品，像素陣列和邏輯電路分別形成在單獨(dú)的晶圓上，然后在過(guò)程中使用稱(chēng)為晶圓鍵合的技術(shù)將它們連接起來(lái)。

　5、CIS收率和質(zhì)量控制技術(shù)

　CIS產(chǎn)品開(kāi)發(fā)和批量生產(chǎn)過(guò)程中最基本的要求之一是金屬污染的控制。由于CIS產(chǎn)品對(duì)污染的敏感度是內(nèi)存產(chǎn)品的數(shù)倍，而且污染直接影響產(chǎn)品良率和質(zhì)量，因此強(qiáng)制要求各種污染控制技術(shù)。