等離子清洗機(jī)：是一款用于表面處理的低溫等離子表面改性設(shè)備。廣泛應(yīng)用于等離子清洗、刻蝕、鍍、涂覆、灰化和表面改性等場(chǎng)合。通過(guò)其處理，能夠改善材料的潤(rùn)濕程度，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作。等離子清洗是一種輕微的刻蝕，等離子體的表面清洗能很快去除金屬表面的油脂、油污等有機(jī)物和氧化層，在進(jìn)行濺射、油漆、粘合、鍵合、焊接、銅焊、PVD、VCD和涂覆前，用等離子處理能得到*的潔凈和無(wú)氧化層的表面。

          QT-60-PSP                            QT-80-PSP

          QT-100-PSP                          QT-120-PSP

     等離子清洗機(jī)設(shè)備的原理是在真空狀態(tài)下，利用射頻輻射使得氧、氬、氮、四氟化碳等氣體生成具有高反應(yīng)活性的離子與器件等反應(yīng)形成揮發(fā)性化合物，然后由真空系統(tǒng)將這些揮發(fā)性物質(zhì)清除出去。
等離子清洗機(jī)設(shè)備應(yīng)用于刻蝕硅片邊沿的硅鱗層，擴(kuò)散過(guò)程中，不但硅片的表面擴(kuò)散上了磷，硅片邊緣也擴(kuò)散上了磷，這會(huì)導(dǎo)致硅片正反兩極通過(guò)邊緣導(dǎo)通短路。所以必須將硅片邊緣這層被擴(kuò)散上的硅磷去掉，大概去除1-3um。硅片在刻蝕機(jī)內(nèi)水平旋轉(zhuǎn)，通入的反應(yīng)氣體為四氟化碳、氧氣和氮?dú)?。其原理是在放電狀態(tài)下反應(yīng)氣體四氟化碳、氧氣和硅片邊緣的硅發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)形成粉末和氣態(tài)物質(zhì)后隨氣流一起被抽走等。

等離子清洗工藝流程圖

產(chǎn)品技術(shù)規(guī)格介紹

QT-60-PSP中型等離子清洗機(jī)規(guī)格

主要技術(shù)參數(shù)：

1)  整機(jī)外形尺寸（約）: 900W×1700H×1000D（mm） 外觀噴塑處理；

2)  反應(yīng)倉(cāng)尺寸： W450mm×H300mm×D450mm；

3)  電源：主系統(tǒng)電源: 380×(1±10%)V(AC)  50Hz～60Hz  三相五線

4)  等離子體頻率：13.56MHz；

5)  射頻電源功率：（0～600）W連續(xù)可調(diào)；

6)  設(shè)備功率：≤3kW

7)  控制方式：采用包括觸摸屏人機(jī)界面的PLC控制，操作方式包括自動(dòng)模式和手動(dòng)模式。在自動(dòng)模式下將不同工藝參數(shù)按照配方方式管理，可同時(shí)存儲(chǔ)100組不同的配方。使用時(shí)只需要將相應(yīng)配方號(hào)調(diào)出即可。設(shè)備參數(shù)分級(jí)管理，設(shè)備操作員、工藝人員、維護(hù)人員使用不同口令管理不同參數(shù)，提高設(shè)備安全性。手動(dòng)模式用于實(shí)驗(yàn)工藝以及設(shè)備維護(hù)維修。

8)  MFC質(zhì)量流量計(jì)控制（標(biāo)準(zhǔn)配置2路）

9)  氣體流量：(0～200)ml/min （標(biāo)準(zhǔn)氣壓,0℃）

10)工作氣體(氧、氬等)接口壓力：≤0.45MPa

11)壓縮空氣（啟動(dòng)氣動(dòng)角閥）接口壓力：0.45Mpa

12)凈化冷卻氣體（氮?dú)猓┙涌趬毫Γ?.45MPa

13)設(shè)備工作節(jié)拍：單次清洗時(shí)間≤6min（反應(yīng)時(shí)間180S左右）

14)工作真空度：10～150Pa

QT-80-PSP中型等離子清洗機(jī)規(guī)格

主要技術(shù)參數(shù)：

1)  整機(jī)外形尺寸（約）: 900W×1700H×1000D（mm） 外觀噴塑處理；

2)  反應(yīng)倉(cāng)尺寸： W600mm×H350mm×D395mm；

3)  電源：主系統(tǒng)電源: 380×(1±10%)V(AC)  50Hz～60Hz  三相五線

4)  等離子體頻率：13.56MHz；

5)  射頻電源功率：（0～600）W連續(xù)可調(diào)；

6)  設(shè)備功率：≤3kW

7)  控制方式：采用包括觸摸屏人機(jī)界面的PLC控制，操作方式包括自動(dòng)模式和手動(dòng)模式。在自動(dòng)模式下將不同工藝參數(shù)按照配方方式管理，可同時(shí)存儲(chǔ)50組不同的配方。使用時(shí)只需要將相應(yīng)配方號(hào)調(diào)出即可。設(shè)備參數(shù)分級(jí)管理，設(shè)備操作員、工藝人員、維護(hù)人員使用不同口令管理不同參數(shù)，提高設(shè)備安全性。手動(dòng)模式用于實(shí)驗(yàn)工藝以及設(shè)備維護(hù)維修。

8)  MFC質(zhì)量流量計(jì)控制（標(biāo)準(zhǔn)配置2路）

9)  氣體流量：(0～200)ml/min （標(biāo)準(zhǔn)氣壓,0℃）

10)工作氣體(氧、氬等)接口壓力：≤0.45MPa

11)壓縮空氣（啟動(dòng)氣動(dòng)角閥）接口壓力：0.5Mpa

12)凈化冷卻氣體（氮?dú)猓┙涌趬毫Γ?.45MPa

13)設(shè)備工作節(jié)拍：單次清洗時(shí)間≤8min（反應(yīng)時(shí)間240S左右）

14)工作真空度：10～150Pa

ze:11.0pt;font-family:宋體'>工作真空度：10～150Pa

QT-100-PSP中型等離子清洗機(jī)規(guī)格

主要技術(shù)參數(shù)：

1)  整機(jī)外形尺寸（約）: 900W×1700H×1000D（mm） 外觀噴塑處理；

2)  反應(yīng)倉(cāng)尺寸： W450mm×H500mm×D450mm；

3)  電源：主系統(tǒng)電源: 380×(1±10%)V(AC)  50Hz～60Hz  三相五線

4)  等離子體頻率：13.56MHz；

5)  射頻電源功率：（0～600）W連續(xù)可調(diào)；

6)  設(shè)備功率：≤4kW

7)  控制方式：采用包括觸摸屏人機(jī)界面的PLC控制，操作方式包括自動(dòng)模式和手動(dòng)模式。在自動(dòng)模式下將不同工藝參數(shù)按照配方方式管理，可同時(shí)存儲(chǔ)100組不同的配方。使用時(shí)只需要將相應(yīng)配方號(hào)調(diào)出即可。設(shè)備參數(shù)分級(jí)管理，設(shè)備操作員、工藝人員、維護(hù)人員使用不同口令管理不同參數(shù)，提高設(shè)備安全性。手動(dòng)模式用于實(shí)驗(yàn)工藝以及設(shè)備維護(hù)維修。

8)  MFC質(zhì)量流量計(jì)控制（標(biāo)準(zhǔn)配置2路）

9)  氣體流量：(0～200)ml/min （標(biāo)準(zhǔn)氣壓,0℃）

10)工作氣體(氧、氬等)接口壓力：≤0.5MPa

11)壓縮空氣（啟動(dòng)氣動(dòng)角閥）接口壓力：0.5Mpa

12)凈化冷卻氣體（氮?dú)猓┙涌趬毫Γ?.5MPa

13)設(shè)備工作節(jié)拍：單次清洗時(shí)間≤8min（反應(yīng)時(shí)間180S左右）

14)工作真空度：10～150Pa

QT-120-PSP中型等離子清洗機(jī)規(guī)格

主要技術(shù)參數(shù)：

1)整機(jī)外形尺寸（約）:L1335×W1080×H1836（mm） 外觀噴塑處理

2)   反應(yīng)倉(cāng)尺寸：不銹鋼L470mm×W450mm×H610mm

3)   電源：主系統(tǒng)電源: 380×(1±10%)V(AC)  50Hz～60Hz  三相四線

4)   等離子體頻率：13.56MHz

5)   射頻電源功率：（0～600）W可調(diào)

6)   設(shè)備功率：≤4kW

7)   控制方式：采用包括觸摸屏人機(jī)界面的PLC控制，操作方式包括自動(dòng)模式和手動(dòng)模式。在自動(dòng)模式下將不同工藝參數(shù)按照配方方式管理，可同時(shí)存儲(chǔ)100組不同的配方。使用時(shí)只需要將相應(yīng)配方號(hào)調(diào)出即可。設(shè)備參數(shù)分級(jí)管理，設(shè)備操作員、工藝人員、維護(hù)人員使用不同口令管理不同參數(shù)，提高設(shè)備安全性。手動(dòng)模式用于實(shí)驗(yàn)工藝以及設(shè)備維護(hù)維修。

8)   MFC質(zhì)量流量控制（標(biāo)準(zhǔn)配置2路）

9)   氣體流量：(0～200)ml/min （標(biāo)況下）

10)工作氣體(氧、氬等)接口壓力：≤0.5MPa

壓縮空氣（啟動(dòng)氣動(dòng)角閥）接口壓力：0.5Mpa

凈化冷卻氣體（氮?dú)猓┙涌趬毫Γ?.5MPa

11）設(shè)備工作節(jié)拍：?jiǎn)未吻逑磿r(shí)間≤8min（反應(yīng)時(shí)間3min）

12）工作真空度：10～150Pa