2 、除臭工藝要求 2.1 離子除臭工藝 系統(tǒng)要求采用離子法常溫氧化除臭工藝設(shè)備，工藝流程如下： 臭氣收集?臭氣輸送?過濾裝置?離子-光解一體化發(fā)生反應(yīng)系統(tǒng)裝置? 離心風(fēng)機(jī)?達(dá)標(biāo)后通過管路排放。 1）、離子除臭工藝是一種安全可靠的處理方法，其原理為離子活化臭氣分 子發(fā)生分解的直接反應(yīng)與活化其它氣體分子再分解臭氣分子的間接反應(yīng)相結(jié)合 的一種高級(jí)氧化技術(shù)，綜合利用了離子對(duì)惡臭物質(zhì)的破壞作用和氧對(duì)惡臭物質(zhì) 的氧化去除作用來去除惡臭氣體中的硫化氫、氨、甲硫醇等 VOC（揮發(fā)性有機(jī) 物）。 2）、污水所產(chǎn)生的臭氣經(jīng)臭氣收集系統(tǒng)收集后集中送至離子除臭裝置處 理，經(jīng)抽風(fēng)機(jī)作用后達(dá)標(biāo)排放，抽風(fēng)機(jī)與除臭裝置配合設(shè)計(jì)選型，并位于同一 個(gè)土建基礎(chǔ)上。 3）、賣方提供的離子除臭設(shè)備為成套裝置，必須是引用*的除臭技 術(shù)產(chǎn)品。并應(yīng)全面負(fù)責(zé)咨詢、設(shè)計(jì)、供貨、安裝、調(diào)試及操作培訓(xùn)、售后服務(wù) 等。 4）、處理系統(tǒng)的風(fēng)量設(shè)置必須滿足同時(shí)滿足規(guī)定的小風(fēng)量的要求。 本項(xiàng)目選用離子法除臭設(shè)備需具有以下特點(diǎn)： ? 除臭系統(tǒng)主體部件離子發(fā)射裝置必須是原產(chǎn)地廠家生產(chǎn)，設(shè)備性能先 進(jìn)，質(zhì)量可靠。 ? 離子發(fā)生裝置設(shè)計(jì)科學(xué)，風(fēng)阻小，能耗低； ? 系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理簡(jiǎn)潔、占地面積小、運(yùn)行成本低等顯著特點(diǎn)； ? 系統(tǒng)運(yùn)行穩(wěn)定，抗沖擊負(fù)荷能力強(qiáng)，并可在確保排放達(dá)標(biāo)的前提下采用 經(jīng)濟(jì)運(yùn)行模式，以降低運(yùn)行成本； ? 系統(tǒng)運(yùn)行方式可根據(jù)工況采用連續(xù)運(yùn)行或間斷運(yùn)行模式； ? 對(duì)環(huán)境無任何形式的二次污染； ? 系統(tǒng)主體設(shè)備使用壽命 10 年，離子發(fā)射管使用壽命大于 20000 小時(shí)。