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上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司
免費(fèi)會(huì)員CMSD改進(jìn)型膠體磨、實(shí)驗(yàn)室研磨機(jī)
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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)- CMSD 產(chǎn)品型號
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訪問次數(shù)：449更新時(shí)間：2019-06-18 18:45:42
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產(chǎn)品簡介
產(chǎn)品介紹
研磨分散機(jī)的應(yīng)用非常廣泛，除了分散機(jī)（乳化機(jī)）適用的醫(yī)藥、食品、日化、染料、涂料等行業(yè)；也適用于膠體磨常用的膠體溶液、色素混合、蛋黃醬、金屬氧化物、瀝青、硅乳膠等行業(yè)。因?yàn)檠心シ稚C(jī)的*設(shè)計(jì)和超常性能，某些產(chǎn)品應(yīng)用和工藝中更加優(yōu)勢明顯，特別是在處理超細(xì)顆粒粉體分散于樹脂、溶液、油相等液相。超細(xì)粉末可以是金屬氧化物如白炭黑、鈦bai粉、鐵紅鐵黑、氧化鋯等，也可以是金屬鹽或者高分子聚合物等。超細(xì)粉末在進(jìn)行分散時(shí)會(huì)遇到的問題，分散不均勻，容易抱團(tuán)（特別是含有添加劑的情況下更加明顯），傳統(tǒng)的方式是采用砂磨機(jī)或者球磨機(jī)進(jìn)行長時(shí)間的反復(fù)研磨，這樣雖然也可以達(dá)到效果，但砂磨機(jī)價(jià)格昂貴（50L的進(jìn)口砂磨機(jī)價(jià)格在數(shù)十萬以上），研磨時(shí)間過長，耗時(shí)耗能，占用空間大，維修成本較高。研磨分散機(jī)的應(yīng)用很好的解決了上述問題，研磨時(shí)間短，節(jié)能減耗，沒有易損件，維修成本ji低，同時(shí)還兼具分散功能；是解決超細(xì)粉體分散抱團(tuán)、不均勻的*選擇。
在涂料的生產(chǎn)中，濕法研磨是關(guān)鍵的工藝步驟。對于油墨生產(chǎn)商，懸浮液的顏色特性非常關(guān)鍵。色強(qiáng)度、光澤和透明度很大程度上與濕法研磨工藝決定并與粒徑分布相關(guān)。顏料被研磨得越細(xì)，他們的總表面積就越大，繼而增加了色強(qiáng)度。這也意味著實(shí)現(xiàn)規(guī)定的色強(qiáng)度需要的顏料越少，收益增加。IKN研磨分散機(jī)、高速研磨分散設(shè)備、改進(jìn)型膠體磨、實(shí)驗(yàn)室研磨機(jī)、微型管線式分散設(shè)備、超微粉碎設(shè)備。
為了實(shí)現(xiàn)更高的光澤，懸浮體的粒徑分布需要變得更窄，粒徑不能差別過大。過大或過小的顆粒都會(huì)對光澤產(chǎn)生不利的影響。而且過小的顆粒更容易重新團(tuán)聚，進(jìn)而降低物料的流動(dòng)性。
IKN研磨分散機(jī)是由膠體磨和分散機(jī)組合而成。兼具研磨和分散功能，但并不是將兩種功能簡單的疊加，不僅僅是1+1=2這樣簡單；研磨分散機(jī)bi須經(jīng)過合理和精密設(shè)計(jì)，特別是其中間隙、流量、尺寸和密封的處理，都經(jīng)過嚴(yán)格的計(jì)算和精心組合；實(shí)際的效果變成了1+1＞2，研磨細(xì)度超過單一的膠體磨，分散效果又強(qiáng)于單一的分散機(jī)。這樣的設(shè)計(jì)既具有膠體磨的研磨功能，可以將物料由粗磨細(xì)；研磨后的物料經(jīng)過下端的分散頭，又可以shun間均勻分散，形成均一體系。
上海依肯IKN高剪切研磨分散機(jī)，采用德國xian進(jìn)的技術(shù)，設(shè)備轉(zhuǎn)速可高達(dá)14000rpm，是guo產(chǎn)設(shè)備的4-5倍；磨頭結(jié)構(gòu)為三級錯(cuò)齒，溝槽深度從上到下為由深到淺，溝槽的寬度也是從上到下為由大到小，這樣每級都會(huì)對物料更進(jìn)一步的研磨粉碎。而guo產(chǎn)分散機(jī)從上到下的寬度都是*的，所以研磨粉碎的效果很有限。IKN分散機(jī)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并配有機(jī)密冷卻系統(tǒng)，在確保冷卻水的情況下，可24小時(shí)連續(xù)生產(chǎn)。IKN研磨分散機(jī)、高速研磨分散設(shè)備、改進(jìn)型膠體磨、實(shí)驗(yàn)室研磨機(jī)、微型管線式分散設(shè)備、超微粉碎設(shè)備。
IKN研磨分散機(jī)采用了二級處理結(jié)構(gòu)，*級采用了高剪切研磨分散機(jī)的磨頭模塊，第二級采用了高剪切分散乳化機(jī)的分散乳化模塊。第二級模塊可根據(jù)客戶對物料的處理要求開配定轉(zhuǎn)子，定轉(zhuǎn)子可配2P、2G、4M、6F、8SF，且定轉(zhuǎn)子精密度都達(dá)到了guo際水平。
采用直立式設(shè)計(jì)，使物料可以全部進(jìn)入分散腔，符合工藝要求和流體力學(xué)要求，增加其工作效率，zui低處出口的出料設(shè)計(jì)符合生產(chǎn)要求，垂直的壓力使得該機(jī)器工作更加穩(wěn)定，同時(shí)便于清潔。充分考慮FDA和EHEDG的標(biāo)準(zhǔn)，CMSD2000與物料接觸的材料根據(jù)生產(chǎn)要求使用SS316鋼或更加耐酸堿的哈氏合金，ji大增強(qiáng)其耐磨損和耐腐蝕的特性，杜絕設(shè)備與物料產(chǎn)生物理和化學(xué)變化而形成污染。采用了三層結(jié)構(gòu)卡匣式的機(jī)械密封設(shè)計(jì)，可以快速安裝，可靠性能高，適合制藥工業(yè)。根據(jù)制藥規(guī)范要求，對分散腔和出料口進(jìn)行表面處理，ji高的表面處理質(zhì)量和*設(shè)計(jì)便于清洗，符合CIP及SIP的清潔標(biāo)準(zhǔn)。
影響研磨效果的因素：
1 磨頭的形式（臥式和立式）
2 磨頭頭的剪切速率
3 磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（見磨頭結(jié)構(gòu)）
4 物料在磨頭墻體的停留時(shí)間，乳化分散時(shí)間
5 循環(huán)次數(shù)
研磨速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
研磨速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，研磨速率取決于以下因素：
- 磨頭的線速率
- 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 （相對而言）
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
IKN設(shè)備的作用力為F=23/0.7X1000=32857 S-1
F=40/0.7/X1000=57142 S-1
而對CMSD模塊頭，磨頭的間歇G理論可以無限小，但是由于高速的運(yùn)轉(zhuǎn)，造成軸的振動(dòng)，需要一定的間歇，作用力可以無限大，但實(shí)際上比膠體磨要好。
1． 具有強(qiáng)大的混合均質(zhì)、分散乳化能力和越強(qiáng)的粉碎研磨、破碎輸送功能
2． 所以零件都采用鍛造精加工而成，*鑄件
3． 電機(jī)采用普通型、防爆型等優(yōu)質(zhì)電機(jī)、確保*使用無質(zhì)量問題
4． 本設(shè)備*設(shè)計(jì)，無振動(dòng)，無噪音，動(dòng)平衡效果好，安裝方便
5． 轉(zhuǎn)定子可進(jìn)行滲氮處理或滲碳化鎢處理，增強(qiáng)表面的硬 度，達(dá)到耐腐耐磨
6． 有強(qiáng)大的輸送能力，揚(yáng)程可達(dá)20米，連續(xù)作業(yè)和間隙作 業(yè)不影響設(shè)備壽命
7． 間隙可以調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)距離為0.01~2mmzui小細(xì)化度可達(dá) 0.5µm
8． 采用機(jī)械水冷耐高溫雙面合金密封，只要有密封冷卻液溢出空轉(zhuǎn)沒問題
IKN研磨分散機(jī)、高速研磨分散設(shè)備、、微型管線式分散設(shè)備、超微粉碎設(shè)備。
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