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能生產(chǎn)3nm!中科院成功研發(fā)全固態(tài)DUV光源技術:完全不同于ASML
中科院的固態(tài)DUV激光技術完全基于固態(tài)設計,由自制的Yb:YAG晶體放大器生成1030nm的激光,在通過兩條不同的光學路徑進行波長轉(zhuǎn)換。Intel宣布世界最先進光刻機投產(chǎn)!晶圓生產(chǎn)效率/可靠性翻倍
Intel宣布,ASML首批兩臺高數(shù)值孔徑(High-NA EUV)極紫光刻機已經(jīng)在其工廠投入生產(chǎn)。據(jù)悉,Intel利用先進光刻機已在一季內(nèi)生產(chǎn)3萬片晶圓,這些晶圓可以產(chǎn)出數(shù)千顆計算芯片。美國開發(fā)新一代BAT激光器:遠超現(xiàn)有EUV光刻 效率提升10倍!
美國勞倫斯利弗莫爾國家實驗室(LLNL)正在研究一種效率比傳統(tǒng)CO2 EUV激光器高10倍的激光器,這將為下一代EUV光刻技術發(fā)展奠定基礎。凡本站注明“來源:智能制造網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡有限公司-智能制造網(wǎng)合法擁有版權或有權使用的作品,未經(jīng)本站授權不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權使用作品的,應在授權范圍內(nèi)使用,并注明“來源:智能制造網(wǎng)”。違反上述聲明者,本站將追究其相關法律責任。
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