HEIJ系列H型噴印設(shè)備是公司開發(fā)的精密微納電流體噴印系統(tǒng),工藝技術(shù)獲得日內(nèi)瓦發(fā)明金獎,集成按需點噴、紡絲直寫和霧化制膜功能,支持矢量圖、位圖等多種圖形格式,適用墨水粘度1~10000cPs,涵蓋各類金屬納米墨水、聚合物、光刻膠、膠粘劑、CNT、石墨烯、蛋白質(zhì)等,廣泛應(yīng)用于印刷電子、生物醫(yī)藥、光電顯示、能源、材料等領(lǐng)域。
HEIJ系列H型噴印設(shè)備特點:設(shè)備支持高壓±3kV,提供直流、方波波形;支持矢量圖、位圖打印,主要功能是電噴的按需點噴,也支持低壓近場紡絲、霧化。工藝技術(shù)獲得日內(nèi)瓦發(fā)明金獎,集成按需點噴、紡絲直寫和霧化制膜功能,支持矢量圖、位圖等多種圖形格式。