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      OLYMPUS GX53倒置 金相顯微鏡

      參考價面議
      具體成交價以合同協(xié)議為準
      • 公司名稱南京諾旭微光電有限公司
      • 品       牌
      • 型       號
      • 所  在  地南京市
      • 廠商性質(zhì)其他
      • 更新時間2023/2/21 12:05:04
      • 訪問次數(shù)351
      產(chǎn)品標簽:

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      聯(lián)系我們時請說明是 智能制造網(wǎng) 上看到的信息,謝謝!

      南京諾旭微光電有限公司自2009 年6 月成立以來,10多年來專注于中光學儀器的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、 服務。公司有多年的光學市場銷售經(jīng)驗和專業(yè)的服務團隊。特別是在FPD平板顯示及半導體行業(yè)有著非常成 熟的配套解決方案,能為客戶提供合理、適用的顯微光學檢測方案。我公司同時擁有專業(yè)的光學設計師和經(jīng)驗豐富的維修工程師,有著完善的售后服務體系、能為客戶提供更多快捷、方便、優(yōu)質(zhì)的服務。 公司主要產(chǎn)品有: 各種光學顯微鏡(測量顯微鏡、 金相顯微鏡、視頻顯微鏡、體視顯微鏡),數(shù)碼顯微鏡,2D影像測量儀,一鍵測量儀,三坐標測量機,3D共聚焦顯微鏡,掃描電鏡,高速相 機,內(nèi)窺鏡,接觸角測量儀,等離子清洗設備,特殊顯微鏡改造,顯微鏡配件,視覺 CCD 鏡頭及LED 光源等相關儀器。主要服務于半導體、液晶面板、探針臺、MEMS、精密刀具、精密加工、金屬材料、 光纖通訊、生命科學、高校、研究所等行業(yè)所涉及的顯微檢查、測量、分析。 經(jīng)營理念:品質(zhì)、服務、價值、共贏
      高速相機
      GX53倒置金相顯微鏡快速分析較厚的大尺寸樣品材料專為鋼鐵、汽車、電子和其他制造行業(yè)設計的GX53倒置金相顯微鏡能夠提供傳統(tǒng)顯微鏡觀察方法難以獲得的清晰圖像
      OLYMPUS GX53倒置 金相顯微鏡 產(chǎn)品信息

      GX53倒置金相顯微鏡

      快速分析較厚的大尺寸樣品材料

      專為鋼鐵、汽車、電子和其他制造行業(yè)設計的GX53倒置金相顯微鏡能夠提供傳統(tǒng)顯微鏡觀察方法難以獲得的清晰圖像。
      在配合奧林巴斯Stream圖像分析軟件使用情況下,該顯微鏡可讓從觀察到圖像分析及報告的整個檢測流程變得更加順暢。

      檢測快捷,功能*

      快速觀察、測量和分析金相組織。

      *的分析工具
      1. 采用組合觀察方法獲得出色圖像
      2. 輕松生成全景圖像
      3. 生成全聚焦圖像
      4. 采集明亮區(qū)域和暗光區(qū)域 

      針對材料學的優(yōu)化
      1. 專為材料科學而設計的軟件
      2. 符合行業(yè)標準要求的金相分析 

      人性化
      即便新手操作員也能夠輕松完成樣品觀察、結果分析/報告創(chuàng)建。
      1. 輕松恢復顯微鏡設置
      2. 用戶指導讓上等分析變得更加簡單
      3. 高效的報告創(chuàng)建 

      *的成像技術
      我們成熟可靠的光學器件和成像技術能夠提供清晰的圖像和可靠的檢測結果。
      1. 可靠的光學性能:波前像差控制
      2. 清晰的圖像:圖像陰影校正
      3. 一致的色溫:高強度白光LED照明
      4. **測量:自動校準 

      模塊化
      根據(jù)您的應用要求選擇所需的組件。
      1. 打造專屬于您的系統(tǒng):利用各種選配組件獲得**定制的系統(tǒng) 

      *的分析工具

      GX53顯微鏡的各種觀察功能可獲得清晰銳利的圖像,讓您能夠?qū)悠愤M行可靠的缺陷檢測。奧林巴斯Stream圖像分析軟件的新型照明技術和圖像采集方案可為您提供評估樣品和記錄研究結果的更多選擇。

      從不可見到可見:MIX技術
      MIX技術將暗場與另一種觀察方法(如明場或偏振)相結合,讓您能夠觀察傳統(tǒng)顯微鏡難以觀察的樣品。圓形LED照明器的定向暗場功能可在時間照射一個或多個象限,從而減少樣品光暈,更好地觀察表面紋理。


      印刷電路板切片

                                                               明場              
                                                               襯底層和通孔不可見。

      暗場                                                   
      痕跡不可見。                    

      MIX: 明場+暗場                           
      所有組件均可清晰呈現(xiàn)。

                                                             明場
                                                             紋理無法觀察。

      暗場象限
      色彩信息被去除。

      MIX: 明場+暗場象限
      材料色彩和紋理均可觀察

      輕松生成全景圖像: 即時MIA

      通過多圖像拼接(MIA)功能, 您轉(zhuǎn)動手動載物臺上的XY旋鈕即可輕松完成圖像拼接—電動載物臺為選配。奧林巴斯Stream軟件采用模式識別生成全景圖像,特別適合用于檢查滲碳和金屬流動情況。

      螺栓的金屬流動

                                                                    使用XY旋鈕調(diào)節(jié)載物臺位置。                                                                                                                                      可觀察到金屬流動的全部狀況。

      生成全聚焦圖像EFI
      奧林巴斯Stream軟件的景深擴展(EFI) 功能可采集高度超出景深范圍的樣品圖像。EFI可將這些圖像堆疊在一起生成單幅的樣品全聚焦圖像。即便分析表面不平坦的切片樣品時,EFI也能夠創(chuàng)建全聚焦圖像。
      EFI配合手動或電動Z軸聚焦裝置,可生成高度圖像,對結構進行可視化觀察。

      樹脂零件

                                                                   使用對焦手柄調(diào)整物鏡高度。                              EFI自動采集和堆疊多幅圖像,生成單幅的樣品全聚焦圖像。                                 生成全聚焦圖像。

      利用HDR同時采集明亮區(qū)域和暗光區(qū)域
      采用*圖像處理技術的高動態(tài)范圍(HDR)可在圖像內(nèi)調(diào)整亮度差異,從而減少眩光。其也有助于增強低對比度圖像的對比度。高動態(tài)范圍(HDR)功能可用于觀察電子組件的細微結構并識別金屬晶界。

      金板

                      某些部位存在眩光。                                                                                       暗光區(qū)域和明亮區(qū)域利用HDR獲得清晰呈現(xiàn)。 

      鉻擴散涂層

                       對比度低且不清晰。                                                                                                      利用HDR增強對比度。 

      應用
      采用不同觀察方法所獲得的效果示例。


      經(jīng)過拋光的AlSi樣品(明場 / 暗場)

                             明場                                                                                                                         暗場  
      明場:一種觀察直接照射樣品反射光的常見觀察方法。
      暗場:可觀察樣品的散射或衍射光線,因此諸如微小劃痕或瑕疵等缺陷非常明顯。

      球墨鑄鐵(明場 / DIC)

                                   明場                                                                                                                   DIC觀察  
      微分干涉相差顯微技術(DIC):一種將樣品高度以類似提高了對比度的3D圖像,呈現(xiàn)出浮雕效果的觀察技術;其非常適用于觀察金相結構和礦物等具有極其細微高度差的樣品。

      鋁合金(明場/偏光)

                           明場                                                                                                                    偏光觀察  
      偏光:一種能夠突出材料紋理和晶體狀態(tài)的觀察技術,用于觀察諸如球墨鑄鐵的石墨生長類型等金相結構和礦物。

      電子組件(明場/ MIX觀察)

                           明場                                                                                                               MIX: 明場+暗場  
      MIX觀察:將明場和暗場相結合,樣品的顏色和結構均可觀察。
      上面的MIX觀察圖像清晰再現(xiàn)了該組件的顏色和紋理以及粘合劑層的狀況。

       

       

       

       

      GX53倒置顯微鏡規(guī)格

      光學系統(tǒng) 光學系統(tǒng)

      UIS2光學系統(tǒng)(無限遠校正系統(tǒng))

      顯微鏡鏡架

      反射光照明

      通過反射鏡單元進行手動明場/暗場選擇 
      帶有調(diào)中功能的手動視場光闌/孔徑光闌切換 
      光源:白光LED(帶光強度控制器)/12 V,100瓦鹵素燈/ 100瓦水銀燈/光導 
      觀察模式:明場、暗場、微分干涉相襯(DIC)*1、簡易偏光 *1、MIX觀察(4個定向暗場)*2
      * 1該觀察方法需要是用專用插片。*2 需要使用MIX觀察配置。

      標尺印記

      所有端口與透過目鏡所見觀察位置的反向位置(上/下)

      前端口輸出(選配) 

      相機和DP系統(tǒng)(倒像, GX專用相機適配器) 

      側(cè)端口輸出(選配) 

      相機, DP系統(tǒng)(正像) 

      電氣系統(tǒng)

      反射光照明 
      用于反射光照明的內(nèi)置LED電源 
      連續(xù)可變光強度控制盤 
      輸入額定值5 V DC,2.5 A(交流適配器100-240 V,AC 0.4 A,50 Hz/60 Hz) 
      透射光照明(需要可選的BX3M-PSLED電源) 
      電壓式連續(xù)可變光強度控制盤 
      輸入額定值5 V DC,2.5 A(交流適配器100-240 V,AC 0.4 A,50 Hz/60 Hz) 
      外部接口(需要使用選配BX3M- CBFM控制盒) 
      編碼物鏡轉(zhuǎn)換器連接器×1 
      MIX插片(U-MIXR)連接器×1 
      手控操作器(BX3M-HS)連接器×1 
      手控操作器(U-HSEXP)連接器×1 
      RS-232C連接器×1,USB 2.0連接器×1

      聚焦

      帶有滾輪導軌的齒輪齒條 
      手動、粗調(diào)和精調(diào)同軸手柄; 對焦行程9毫米(2毫米在載物臺平面以上7毫米在載物臺行程以下) 
      微調(diào)手柄每轉(zhuǎn)行程: 100微米 (最小刻度: 1微米) 
       粗調(diào)手柄每轉(zhuǎn)行程: 7毫米 
       配粗調(diào)焦扭矩調(diào)節(jié)環(huán) 
       配粗調(diào)焦上限止動銷

      鏡筒

      寬視場(FN 22)

      倒置: 雙目鏡(U-BI90, U-BI90CT), 三目鏡(U-TR30H-2), 可傾斜雙目鏡 (U-TBI90) 

      物鏡轉(zhuǎn)換器

      明場孔: 4至7個, 類型: 手動/編碼,對中: 啟用/禁用 
      明場/暗場孔: 5至6個, 類型: 手動/編碼,對中: 啟用/禁用

      載物臺

      GX右手載物臺(X/Y行程: 50 × 50毫米, 載荷5公斤) 
      活動式右手柄載物臺, 左手短手柄載物臺(各自X/Y行程: 50×50毫米,載荷1公斤) 
      滑動載物臺(載荷1公斤) 
      一套水滴型和長孔型

      重量

      約25公斤 (顯微鏡架20公斤) 

      環(huán)境

      ·室內(nèi)使用 
      ·環(huán)境溫度:5至40°C(45至100°F) 
      ·相對濕度:溫度31 °C (88 °F)以內(nèi)時80% (無冷凝) 
      如若超出31 °C (88 °F), 34 °C (93 °F)時相對濕度線性下降到70%,37 °C (99 °F)時下降到60%,40 °C (104 °F)時下降到50% 
      ·污染等級:2(符合IEC60664-1要求) 
      ·安裝/過壓分類:II類(符合IEC60664-1要求) 
      ·電源電壓波動:±10 %

       

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