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      行業(yè)產(chǎn)品
      
							
						
      
						
        
							
      • 行業(yè)產(chǎn)品
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      上海德竹芯源科技有限公司
                                
                
                
      

							
      
                        			
      
		
      
	
      
	
	
      
		
      
            
      
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      SENTECH-等離子刻蝕機(jī) - (SI 591)
      
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      參  考  價(jià)面議  
      
					                    
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      
				
      
				
				
      
						
      
							
      產(chǎn)品型號SI 591
      
							
      品       牌
      
		                    
      廠商性質(zhì)其他
      
		                    							
      所  在  地上海
      
						
      
                        
                    
      
					 							        										
      聯(lián)系方式：查看聯(lián)系方式
      
									                                                 
      
						
      
							
      
								更新時間：2024-05-15 09:20:26瀏覽次數(shù)：61次
							
      
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                    產(chǎn)品簡介
                
      
				
      
                      
      
                                                                      
      
					
      靈活性、模塊性和占地面積小是 SI 591 的設(shè)計(jì)特點(diǎn)。
      
				
      
				
      
                    詳細(xì)介紹
                
      
			    
      
			        
      
			                                   
                               
                                   
      反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備
      Reactive Ion Etching - RIE

      SI 591 反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備是 SENTECH 設(shè)計(jì)的緊湊型模塊化刻蝕設(shè)備，具有高靈活性，適用于化合物半導(dǎo)體、聚合物、介質(zhì)、金屬和硅工藝刻蝕，可配置單反應(yīng)腔體或帶預(yù)真空室和片盒站的多腔系統(tǒng)，也可以升級到 CVD Cluster中。帶預(yù)真空室的設(shè)備支持使用氯基氣體。
      基于SI 591反應(yīng)離子刻蝕的CVD Cluster

      設(shè)備主要特點(diǎn)
           ● 工藝靈活，功能齊全：SI 591等離子體刻蝕設(shè)備配備高真空抽氣系統(tǒng)，可適用于氯基和氟基等腐蝕性等離子蝕刻工藝。
           ● 占地面積小且模塊化程度高：SI 591等離子體刻蝕設(shè)備單腔帶預(yù)真空室的占地面積為：655 × 1050 mm2，可配置為單個反應(yīng)腔或作為片盒到片盒裝載的多腔設(shè)備，也可集成于CVD Cluster。
           ● SENTECH控制軟件：
           ● 我們的等離子蝕刻設(shè)備有功能強(qiáng)大的用戶友好軟件與模擬圖形用戶界面、參數(shù)窗口、工藝窗口、數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。
           ● 預(yù)真空室和計(jì)算機(jī)控制的等離子體刻蝕工藝條件，使得 SI 591 具有優(yōu)異的工藝再現(xiàn)性和等離子體蝕刻工藝靈活性。靈活性、模塊性和占地面積小是 SI 591 的設(shè)計(jì)特點(diǎn)。樣品直徑可達(dá) 200 mm，通過載片器加載。
           ● 位于頂部電極和反應(yīng)腔體的更大診斷窗口可以輕易地容納 SENTECH 激光干涉儀或 OES 和 RGA 系統(tǒng)。橢偏儀端口可用于 SENTECH 橢偏儀進(jìn)行原位監(jiān)測。
           ● SI 591 結(jié)合了計(jì)算機(jī)控制的 RIE 平行板電極設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn)和預(yù)真空室系統(tǒng)。SI 591 可配置用于各種材料的刻蝕。在 SENTECH，我們提供不同級別的自動化程度，從真空片盒載片到一個工藝腔室或多達(dá)六個工藝模塊端口，可用于不同的蝕刻和沉積工藝模塊組成多腔系統(tǒng)，目標(biāo)是高靈活性或高產(chǎn)量。SI 591 也可用作多腔系統(tǒng)中的一個工藝模塊。

      應(yīng)用展示

      介質(zhì)，半導(dǎo)體，硅，金屬刻蝕
                               
                             
                             
                               
                                   
      SI 591 等離子刻蝕設(shè)備
           ● 占地面積小的 RIE 等離子刻蝕
           ● 預(yù)真空室
           ● 支持鹵素和氟基氣體
           ● 適用于 200 mm 的晶圓
           ● 可集成原位激光干涉儀和基于OES的終點(diǎn)監(jiān)測
                               
                             
                             
			        
      
			    
      
                			    
      關(guān)鍵詞：激光干涉儀
      
                                                				
			
      
			
      
		
      
	
      
	
    
      
		
      
			
      
				
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