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指紋門禁考勤一體機(jī)在識(shí)別階段需要在數(shù)據(jù)庫中反復(fù)比對(duì)指紋,直到找出與輸入指紋一致的指紋,系統(tǒng)響應(yīng)時(shí)間相對(duì)較長。為了減少系統(tǒng)的響應(yīng)時(shí)間,通常對(duì)指紋進(jìn)行分類,在識(shí)別時(shí)只需將輸入指紋和數(shù)據(jù)庫中與輸入指紋同類的指紋進(jìn)行比對(duì),這樣,只需搜索部分指紋庫就可以判定輸入指紋是否合法。
常用的指紋分類模式為根據(jù)指紋中核心點(diǎn)(coM)和三角點(diǎn)(b1M)的數(shù)量和位置來對(duì)指紋進(jìn)行分類的HeNv分類模式或其變種。Henv分類模式將指紋分成五類:左箕型、右箕型、斗型(whorL)、拱型(sMh)和尖拱型(加以Mh)。目前的許多研究工作都圍繞著如何提高Hen邱分類模式的正確率展開“15hM J:也有人通過合并多個(gè)分類器來提高分類的正確率,同時(shí)增加分類的數(shù)量。
由于指紋圖像質(zhì)量的影響,各種分類算法都存在一定的錯(cuò)誤率和拒絕串。對(duì)于箕型、斗型和尖拱型的指紋很可能由于指頭在指紋儀上的移動(dòng)而使得三角點(diǎn)或某個(gè)核心點(diǎn)在掃描區(qū)域之外,從而掃描出來的指紋圖像中只有一個(gè)核心點(diǎn),H模式無法對(duì)這樣的指紋分類而被系統(tǒng)拒絕。同時(shí),按照H叫模式,指紋的分布很不均勻。前人的統(tǒng)計(jì)結(jié)果表明:不同類型指紋的分布大概為1vhorL—279%、1d11Mp—33.8%、d辦INp—31.7%、礬k—3.7%、加以mh—2.9沖。衡量指紋分類方法性能的參數(shù)之一是系統(tǒng)穿透系數(shù),其中外為數(shù)據(jù)庫的記錄數(shù),c為比對(duì)次數(shù)。假設(shè)某分類算法的錯(cuò)誤率為兄,拒絕率為及*理想情況下兄=及r=o,這時(shí)
Henl模式的系統(tǒng)穿透系數(shù)為公式(1.2)o
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