半導(dǎo)體工業(yè)超純水設(shè)備工藝流程： 

半導(dǎo)體工業(yè)超純水設(shè)備新工藝一: 

原水(設(shè)有壓力保護(hù))→增壓泵→砂過(guò)濾器→炭過(guò)濾器→軟化器(根據(jù)地區(qū)不合選用)→緊密過(guò)濾器(或稱保安過(guò)濾器)→兩頭水箱→RO前水泵→緊密過(guò)濾器(或稱保安過(guò)濾器)→RO高壓泵→RO反滲透系統(tǒng)→RO水箱→RO水增壓泵→混床→終端緊密過(guò)濾→UV紫外線殺菌→設(shè)備用水(水質(zhì)可以達(dá)到15MΩ.cm以上即0.066μs/ ㎝以下，25 ℃)工業(yè)(又稱超純水機(jī)、超純水設(shè)備等)/半導(dǎo)體用超純?nèi)ルx子水(指除去了呈離子方式雜質(zhì)后的純水) 

設(shè)備新工藝二: 

原水(設(shè)有壓力保護(hù))→增壓泵(一用一備)→砂過(guò)濾器→炭過(guò)濾器→軟化器(根據(jù)地區(qū)不合選用)→緊密過(guò)濾器(或稱保安過(guò)濾器)→兩頭水箱→RO前水泵→緊密過(guò)濾器(或稱保安過(guò)濾器)→RO高壓泵→RO反滲透系統(tǒng)→RO水箱→RO水增壓泵→普通混床→拋光混床→終端緊密過(guò)濾→UV紫外線殺菌→設(shè)備用水(水質(zhì)可以達(dá)到18MΩ.cm以上即0.056μs/ ㎝以下，25 ℃)  

應(yīng)用領(lǐng)域: 

　　電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗; 

　　電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水; 

　　黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水; 

　　生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液; 

　　晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片; 

　　集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片; 

　　半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水; 

　　半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗; 

　　高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn); 

　　汽車、家電表面拋光處理