新型納米研磨分散機(jī)，納米研磨分散設(shè)備，納米高剪切分散機(jī)，納米管線式分散機(jī)，管線式研磨分散機(jī)，CIK研磨分散機(jī)

 納米級(jí)結(jié)構(gòu)材料簡(jiǎn)稱為納米材料(nanometermaterial)，是指其結(jié)構(gòu)單元的尺寸介于1納米～100納米范圍之間。由于它的尺寸已經(jīng)接近電子的相干長(zhǎng)度，它的性質(zhì)因?yàn)閺?qiáng)相干所帶來的自組織使得性質(zhì)發(fā)生很大變化。并且，其尺度已接近光的波長(zhǎng)，加上其具有大表面的特殊效應(yīng)，因此其所表現(xiàn)的特性，例如熔點(diǎn)、磁性、光學(xué)、導(dǎo)熱、導(dǎo)電特性等等，往往不同于該物質(zhì)在整體狀態(tài)時(shí)所表現(xiàn)的性質(zhì)                                               

對(duì)于納米的物料分散一直是人們關(guān)注的熱點(diǎn)，納米分散存在著難以解決的問題，納米物料分散到流體物質(zhì)當(dāng)中容易形成二級(jí)團(tuán)聚體，導(dǎo)致物料粒徑變大，難以分散。面對(duì)這種情況，CIK研發(fā)出新型設(shè)備-研磨分散機(jī)，應(yīng)對(duì)納米物質(zhì)的分散問題。并有著廣泛的實(shí)例，如納米級(jí)白炭黑的分散，納米級(jí)石墨烯的分散，都在使用CIK研磨分散機(jī)進(jìn)行分散處理，效果顯著。

    NKD2000系列研磨分散設(shè)備是CIK（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）         

  
     第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

【新型納米研磨分散機(jī)的特點(diǎn)】

1   線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。

2   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

3  定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4   在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

5   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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新型納米研磨分散機(jī)設(shè)備選型表