影響穩(wěn)定性和性主要 因素

歸納起來影響穩(wěn)定性和性的因素主要有： 
1）敏感柵箔材及熱處理的影響 
稱重傳感器用電阻應(yīng)變計敏感柵箔材康銅（銅鎳合金）和卡瑪、伊文合金（鎳鉻改良合金），
影響穩(wěn)定性和性的因素除合金成份的純度和組織的均勻性外，主要是合金箔材的熱處理。
箔材在多次軋制、碾壓過程中，晶格產(chǎn)生位錯、滑移、空位破裂等缺陷，其附近的原子處于熱力學(xué)
上的狀態(tài)，是電學(xué)的重要原因。因此須進行穩(wěn)定性處理，即退火處理，在達(dá)到
退火溫度時這些原子吸收熱能產(chǎn)生擴散，使晶格缺陷遷移和消失，電阻率和電阻溫度系數(shù)趨于穩(wěn)定。
退火溫度、保溫時間、循環(huán)次數(shù)是穩(wěn)定性處理的三要素。如果箔材熱處理和穩(wěn)定性處理選擇不
當(dāng)，將造成箔材的電學(xué)和溫度特性，是電阻應(yīng)變計的主要因素。 
2）基底、覆蓋層和應(yīng)變膠粘劑的影響 
電阻應(yīng)變計的基底、覆蓋層和應(yīng)變膠粘劑均為有機分子材料。而有分子材料都會受到空
氣中的水分和氧氣的影響，因為水能滲入幾乎有聚合物產(chǎn)生增塑，也同樣會隨時間而發(fā)生劣化，
即由于物理的或化學(xué)的變化使其降低。從而使基底、覆蓋層與敏感柵之間的粘結(jié)度下降，導(dǎo)
致稱重傳感器的滯后、蠕變、零漂增大，靈敏度降低，直至*失效。電阻應(yīng)變計基底膠膜和覆蓋
層的厚度，對應(yīng)變傳遞和蠕變、滯后均有較大影響，因此須加對材料的選取確保基底
膠膜厚度為 25±5μm，復(fù)覆蓋層厚度為 10±2μm。 
3）殘余應(yīng)力的影響 
電阻應(yīng)變計的和粘貼均經(jīng)過多道工序過程，由于箔材清洗、與框架粘接、涂基底膠、
化學(xué)蝕刻、加復(fù)覆蓋層及固化夾持力、機械或化學(xué)調(diào)阻等工序，需經(jīng)受酸、堿、試劑（丙酮、
無水乙醇、丁酮）以及水等介質(zhì)的作用，都在敏感柵、基底和覆蓋層內(nèi)產(chǎn)生殘余應(yīng)力。這些殘
余應(yīng)力隨著時間和使用逐漸釋放造成電阻應(yīng)變計。為克服殘余應(yīng)力的影響，須采用特
殊的穩(wěn)定性處理。 
4）缺陷的影響 
由于裝備和水平等因素造成敏感柵蝕刻后，在柵條上和柵條間出現(xiàn)較大鋸齒、鋸齒
間細(xì)柵、過蝕刻缺口、欠蝕刻“小島"、柵間“連橋"，在基底內(nèi)產(chǎn)生氣泡，甚至夾帶灰塵、雜質(zhì)等缺陷。
敏感柵上的鋸齒間細(xì)柵或缺口，隨著應(yīng)力循環(huán)次數(shù)的增加而引起電阻不可逆變化，造成滯后增大、零

點等嚴(yán)重后果?；變?nèi)的氣泡可產(chǎn)生不均勻的熱交換，使電阻應(yīng)變計的零點漂移增大。 
5）殘余蝕刻液的影響 
電阻應(yīng)變計敏感柵在粗、蝕刻過程中，都采用三氯化鐵等蝕刻液，蝕刻或調(diào)阻后若控制
不，表面清洗在敏感柵表面殘留微量蝕刻液，繼續(xù)對敏感柵進行蝕刻，使電阻值緩慢
增加，產(chǎn)生波動。 
為減少上述影響，提稱重傳感器的性，須從源頭上控制這些不因素。由于敏感柵
將彈性元件的應(yīng)變轉(zhuǎn)換為電阻變化，基底支持敏感柵使其保持規(guī)定的幾何形狀，覆蓋層既保護敏感
柵又增加敏感柵與基底的粘結(jié)力，以只有敏感柵、基底和覆蓋層三者結(jié)為個整體，才能應(yīng)
變傳遞，提電阻應(yīng)變計的性。 
（3）電阻應(yīng)變計的篩選 
電阻應(yīng)變計的決定了其成品然存在些不可避免的缺陷，作為短期使用的工程
結(jié)構(gòu)實驗應(yīng)力分析*可以滿足要求。用于的稱重傳感器，即使是 A 級電阻應(yīng)變計有些指
標(biāo)還存在定差距。為了提稱重傳感器的長期穩(wěn)定性和工作性，對電阻應(yīng)變計須進行
的檢查與篩選。主要檢查與篩選項目是：幾何形狀與表面質(zhì)量，機械與電學(xué)，電阻值分散度等。
只有將電阻溫度系數(shù)小且穩(wěn)定、電阻值偏差小的電阻應(yīng)變計粘貼在同個彈性元件上，才能有利于
各道工序作業(yè)并提稱重傳感器的性。 

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