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      中芯營(yíng)收增長(zhǎng)迅猛 臺(tái)積電遭遇強(qiáng)勁對(duì)手

      2017-01-16 09:13:58來(lái)源:一點(diǎn)號(hào)——柏銘科技 編輯:一不做 關(guān)鍵詞:芯片半導(dǎo)體集成電路閱讀量:28680

      導(dǎo)讀:目前前四大代工廠分別是臺(tái)積電、GF、聯(lián)電和中芯。臺(tái)積電憑借著優(yōu)勢(shì)正在進(jìn)一步拉開差距,2016年其在半導(dǎo)體代工市場(chǎng)的份額進(jìn)一步抬升到59%,老大地位無(wú)可動(dòng)搖。
        【中國(guó)智能制造網(wǎng) 智造快訊】目前前四大代工廠分別是臺(tái)積電、GF、聯(lián)電和中芯。臺(tái)積電憑借著優(yōu)勢(shì)正在進(jìn)一步拉開差距,2016年其在半導(dǎo)體代工市場(chǎng)的份額進(jìn)一步抬升到59%,老大地位無(wú)可動(dòng)搖。


      中芯營(yíng)收增長(zhǎng)迅猛 臺(tái)積電遭遇強(qiáng)勁對(duì)手

       
        據(jù)新統(tǒng)計(jì)的數(shù)據(jù)顯示,中國(guó)在半導(dǎo)體制造市場(chǎng)的份額比例進(jìn)一步上升,其中作為中國(guó)大陸大半導(dǎo)體制造代工廠的中芯在前四大半導(dǎo)體制造廠中增速快,與中國(guó)臺(tái)灣的聯(lián)電進(jìn)一步縮短了差距。
       
        目前前四大代工廠分別是臺(tái)積電、GF、聯(lián)電和中芯。臺(tái)積電憑借著優(yōu)勢(shì)正在進(jìn)一步拉開差距,2016年其在半導(dǎo)體代工市場(chǎng)的份額進(jìn)一步抬升到59%,老大地位無(wú)可動(dòng)搖。
       
        GF在經(jīng)過幾年的停滯后,去年罕有的取得了10%的營(yíng)收增長(zhǎng),因它從三星購(gòu)買來(lái)14nm FinFET工藝,贏回了部分AMD的訂單,市場(chǎng)份額維持在11%。
       
        第三位的聯(lián)電,前年錄得負(fù)增長(zhǎng),去年總算勉強(qiáng)取得3%的增長(zhǎng),不過由于其他三家代工廠的營(yíng)收增速更快導(dǎo)致它的市場(chǎng)份額出現(xiàn)下滑,跌落到9%,位居第三位。
       
        去年值得驚訝的是中國(guó)大陸的中芯了,其營(yíng)收錄得31%的增長(zhǎng),繼前年取得營(yíng)收高速增長(zhǎng)后去年的增速進(jìn)一步提速,市場(chǎng)份額提升至6%,與聯(lián)電的營(yíng)收差距進(jìn)一步縮窄,這與中國(guó)市場(chǎng)的芯片設(shè)計(jì)企業(yè)迅速成長(zhǎng)有很大關(guān)系,此外也與芯片霸主高通的大力支持有重要關(guān)系。
       
        受中國(guó)反壟斷調(diào)查的壓力,高通在2015年選擇與中芯合作,幫助后者提升工藝制程,同時(shí)將部分芯片訂單交給后者。在高通的幫助下,中芯的28nm工藝迅速在2015年量產(chǎn),更在去年成功將工藝改進(jìn)到28nm HKMG,與聯(lián)電處于同一水平。
       
        聯(lián)電眼下14nm FinFET工藝進(jìn)展緩慢,導(dǎo)致它未能在去年底成功量產(chǎn),終只能在廈門的12寸晶圓廠引入40nm工藝,中國(guó)臺(tái)灣方面要求聯(lián)電和臺(tái)積電必須在中國(guó)臺(tái)灣投產(chǎn)在大陸建設(shè)的晶圓廠一代工藝。
       
        中芯在先進(jìn)的28nm HKMG開始投入生產(chǎn)后,大陸的芯片設(shè)計(jì)企業(yè)就無(wú)需再前往中國(guó)臺(tái)灣,而這一市場(chǎng)自2014年中國(guó)推出的集成電路產(chǎn)業(yè)基金成立以來(lái)芯片設(shè)計(jì)企業(yè)開始日益興盛,憑借著這種地利優(yōu)勢(shì)它的營(yíng)收于是取得了迅速的增長(zhǎng)。
       
        今年和明年中芯的大挑戰(zhàn)就是其14nm FinFET工藝能否如期投產(chǎn)了。臺(tái)媒方面指聯(lián)電將在今年投產(chǎn)期14nm FinFET工藝,這樣其廈門工廠應(yīng)該能在今年引入28nm HKMG工藝與中芯競(jìng)爭(zhēng),明年臺(tái)積電的南京12寸晶圓廠投產(chǎn)預(yù)計(jì)會(huì)引入16nm FinFET工藝。
       
        如果中芯不能在明年順利投產(chǎn)14nm FinFET工藝,這將給它帶來(lái)重大挑戰(zhàn),不過早在2015年中它與高通、華為、IMEC等達(dá)成合作加快該工藝的研發(fā),近期再獲得領(lǐng)導(dǎo)臺(tái)積電16nm FinFET工藝研發(fā)的蔣尚義加盟,更傳可能攬得FinFET工藝研發(fā)的者梁孟松,梁孟松是臺(tái)積電和三星FinFET工藝的重要功臣。
       
        在中芯的營(yíng)收迅速增長(zhǎng)的同時(shí),其也在加大研發(fā)投入,去年其資本開支提高到25億美元,這是它在該項(xiàng)支出上超過聯(lián)電,后者去年的資本支出為22億美元,這也有助于中芯加速其14nm FinFET工藝的研發(fā),因此筆者認(rèn)為中芯的14nm FinFET工藝明年如期量產(chǎn)的可能性很大。
       
        半導(dǎo)體先進(jìn)工藝對(duì)于一個(gè)國(guó)家的芯片產(chǎn)業(yè)極為重要,中國(guó)大陸的華為海思、展訊已居于芯片設(shè)計(jì)企業(yè)前十,但是它們都曾被臺(tái)積電優(yōu)先將先進(jìn)工藝產(chǎn)能提供給高通、蘋果等體量更大的芯片設(shè)計(jì)企業(yè),更不要談大陸其他體量更小的芯片設(shè)計(jì)企業(yè)了,其實(shí)也正是因?yàn)橹行救〉玫倪M(jìn)步才迫使臺(tái)積電和聯(lián)電進(jìn)入大陸開設(shè)晶圓廠并引入更先進(jìn)的工藝。
       
        (原標(biāo)題:中芯逼近聯(lián)電 大陸半導(dǎo)體制造再上一步)
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