半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)有望反彈到2027年將超過(guò)28億美元

2023-12-28 09:28:41來(lái)源：TechWeb.com.cn 關(guān)鍵詞：光刻膠半導(dǎo)體閱讀量：23828

導(dǎo)讀：目前，光刻膠市場(chǎng)一直由東京應(yīng)化工業(yè)(Tokyo Ohka Kogyo)、杜邦、JSR、信越化學(xué)、住友化學(xué)和東進(jìn)世美肯(Dongjin Semichem)等主要制造商主導(dǎo)。

　　12月27日消息，據(jù)外媒報(bào)道，今日，集邦咨詢?cè)凇?023年全球光刻膠市場(chǎng)分析》報(bào)告中表示，2023年半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)的銷售收入預(yù)計(jì)將同比下降6-9%。

　　該機(jī)構(gòu)表示，隨著下游客戶庫(kù)存的持續(xù)改善、產(chǎn)能利用的逐步恢復(fù)，以及人工智能和智能汽車等應(yīng)用的成熟和激增，半導(dǎo)體行業(yè)預(yù)計(jì)將在2024年迎來(lái)復(fù)蘇。半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)也有望反彈，市場(chǎng)規(guī)模將恢復(fù)到2022年的歷史峰值，并進(jìn)一步增長(zhǎng)，到2027年將超過(guò)28億美元。

　　據(jù)悉，先進(jìn)的半導(dǎo)體工藝除了依賴光刻機(jī)之外，還依賴光刻膠。光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑，是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料，它是光刻工藝中的關(guān)鍵材料，主要應(yīng)用于顯示面板、集成電路和半導(dǎo)體分立器件等細(xì)微圖形加工作業(yè)。

　　目前，光刻膠市場(chǎng)一直由東京應(yīng)化工業(yè)(Tokyo Ohka Kogyo)、杜邦、JSR、信越化學(xué)、住友化學(xué)和東進(jìn)世美肯(Dongjin Semichem)等主要制造商主導(dǎo)。其中，日本制造商的供應(yīng)比例約為80%。在EUV、ArFi/ArF等先進(jìn)光刻膠領(lǐng)域，JSR、TOK和信越化學(xué)等日本大公司占據(jù)絕對(duì)主導(dǎo)地位。

　　此前，在12月14日，集邦咨詢表示，全球光刻膠價(jià)格上漲，給半導(dǎo)體行業(yè)帶來(lái)了挑戰(zhàn)。據(jù)韓媒報(bào)道，由于原材料和勞動(dòng)力成本不斷上漲，日本住友化學(xué)旗下的子公司Dongwoo Fine-Chemistry計(jì)劃提高面向韓國(guó)半導(dǎo)體公司的KrF和L-line光刻膠價(jià)格，漲價(jià)幅度因產(chǎn)品種類而異，大約在10%到20%之間。

　　原標(biāo)題：集邦咨詢：今年半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)收入將同比下降6-9% 明年有望復(fù)蘇

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