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近日，湖北東湖科學(xué)城·光谷新型顯示產(chǎn)業(yè)基地于武漢正式啟動建設(shè)，柔性O(shè)LED顯示噴墨打印技術(shù)與器件開發(fā)等5個重大新型顯示產(chǎn)學(xué)研合作及終端項目簽約落地。
啟動儀式現(xiàn)場，國創(chuàng)科噴墨制造設(shè)備項目也同步啟動。該項目面向顯示面板產(chǎn)線大尺寸、高效率、高精度量產(chǎn)需求，以EHD噴印技術(shù)變革了現(xiàn)有蒸鍍工藝，成功開發(fā)出OLED、QLED、Micro LED等新型顯示噴印制造相關(guān)成套創(chuàng)新工藝、關(guān)鍵共性技術(shù)與核心裝備。
據(jù)了解，國創(chuàng)科公司現(xiàn)已研發(fā)出國內(nèi)首臺G4.5噴印設(shè)備，并已進入中試階段，預(yù)計再2024年、2026年G6、G8.5噴印設(shè)備均可按期面世。
目前G4.5噴印設(shè)備已進入武漢華星光電中試生產(chǎn)線，國創(chuàng)科與武漢華星光電也在活動當(dāng)天簽訂協(xié)議，雙方擬共同建立G4.5新型顯示噴印制造平臺，以全新“打印”技術(shù)來生產(chǎn)顯示面板，未來有望推動解決新型顯示產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵設(shè)備“卡脖子”難點。
眾所周知，OLED面板由基板和發(fā)光材料組成。目前制造OLED面板的主流方案是采用蒸鍍工藝，指在密閉設(shè)備內(nèi)，將固體發(fā)光材料透過高精金屬掩模板蒸發(fā)到基板上，存在材料利用率較低，且需要真空、高溫環(huán)境，對設(shè)備工作環(huán)境要求高等弊端，因此不適合生產(chǎn)大屏。
國創(chuàng)科總經(jīng)理陳建魁介紹稱，該公司研發(fā)的電流體噴印技術(shù)，可定點噴印發(fā)光材料，材料利用率高達90%，造屏材料成本僅為蒸鍍工藝的1/3至1/5；設(shè)備在常溫常壓下工作，生產(chǎn)屏幕的尺寸不受限制；電流體噴印分辨率可達0.2微米，相較蒸鍍工藝有大幅提升。
更加具有劃時代意義的是，雖然我國新型顯示產(chǎn)業(yè)規(guī)模達到了全球第一的高度，但核心高端材料與設(shè)備均依賴海外進口。
而G4.5的問世成功以自主創(chuàng)新技術(shù)推動解決了新型顯示產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵設(shè)備關(guān)鍵核心技術(shù)難點，有望幫助中國持續(xù)引領(lǐng)新型顯示行業(yè)變革。
“我們未來可以像印刷報紙一樣制造顯示屏，為國家新型顯示產(chǎn)業(yè)開道” 陳建魁總結(jié)道。
原標(biāo)題:TCL華星謀劃“打印”面板技術(shù)
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