當前位置：智能制造網資訊中心企業(yè)動態(tài)

ASML未來四代EUV光刻機進度披露：正向1nm邁進

2021-03-19 09:24:58來源：快科技關鍵詞：EUV光刻機半導體設備閱讀量：25030

導讀：預計今年年底前，NXE：3600D將開始交付，30mJ/cm2下的晶圓通量是160片，比3400C提高了18%，機器匹配套準精度也增加了，它預計會是未來臺積電、三星3nm制程的主要依托。

　　日前，ASML產品營銷總監(jiān)Mike Lercel向媒體分享了EUV(極紫外)光刻機的新進展。

　　ASML現(xiàn)在主力出貨的EUV光刻機分別是NXE：3400B和3400C，它們的數(shù)值孔徑(NA)均為0.33，日期更近的3400C目前的可用性已經達到90%左右。

　　預計今年年底前，NXE：3600D將開始交付，30mJ/cm2下的晶圓通量是160片，比3400C提高了18%，機器匹配套準精度也增加了，它預計會是未來臺積電、三星3nm制程的主要依托。

　　在3600D之后，ASML規(guī)劃的三代光刻機分別是NEXT、EXE：5000和EXE:5200，其中從EXE：5000開始，數(shù)值孔徑提高到0.55，但要等待2022年晚些時候發(fā)貨了。

　　由于光刻機從發(fā)貨到配置/培訓完成需要長達兩年時間，0.55NA的大規(guī)模應用要等到2025~2026年了，服務的應該是臺積電2nm甚至1nm等工藝。

　　0.55NA比0.33NA有著太多優(yōu)勢，包括更高的對比度、圖形曝光更低的成本、更高的生產效率等。

　　當然，硅片、曝光潔凈室逼近物理極限，也是不容小覷的挑戰(zhàn)?，F(xiàn)今5nm/7nm光刻機已然需要10萬+零件、40個集裝箱，而1nm時代光刻機要比3nm還大一倍左右，可想而知了。

　　(原標題：ASML未來四代EUV光刻機進度披露：正向1nm邁進)

上一篇：硬實力！華為上線專利墻：展示729個不同領域專利

下一篇：華邦電子董事會通過新12英寸晶圓廠資本支出方案總額4.6億美元

我要評論

昵稱

匿名

文明上網，理性發(fā)言。（您還可以輸入200個字符)

表情

所有評論僅代表網友意見，與本站立場無關。

中微半導體創(chuàng)始人尹志堯放棄美國國籍恢復中國國籍
在中微公司2022年發(fā)布的年報里，尹志堯是美國國籍，而2023年年報中，中微公司沒有披露尹志堯的國籍。2004年至今，尹志堯擔任中微公司董事長、總經理、核心技術人員。
中微半導體半導體設備
2025-04-21 14:07:34
半導體設備國產化迫在眉睫，新凱來“軟硬協(xié)同”模式引關注
在此次上海SEMICON China 2025半導體展期間，新凱來發(fā)布了覆蓋半導體制造全流程的31款設備，幾乎覆蓋了芯片制造的關鍵環(huán)節(jié)，含四大類(擴散、刻蝕、薄膜和量檢測)產品，包括PVD(普陀山)、CVD(長白山)、ALD(阿里山)等薄膜設備，ETCH(武夷山)刻蝕裝備，以及岳麗山BFI光學檢測系統(tǒng)等產品，多款量檢測設備陸續(xù)量產、完成驗證、或者進入客戶端驗證。
半導體設備
2025-04-06 11:10:44
總投資30.5億元！中微公司在四川成都建研發(fā)基地
據(jù)報道，中微公司將在成都高新區(qū)設立全資子公司——中微半導體設備(四川)有限公司，專注于高端邏輯及存儲芯片相關設備的研發(fā)和生產，涵蓋化學氣相沉積設備、原子層沉積設備及其他關鍵設備。
中微半導體設備
2025-03-03 10:12:51
重磅并購！家電巨頭康佳集團收購“準IPO”企業(yè)
半導體行業(yè)又一重磅并購！康佳集團發(fā)布公告并購芯片“小巨人”企業(yè)，旨在整合供應鏈、提升產品研發(fā)與創(chuàng)新能力。從這次收購動向，可以看出半導體行業(yè)哪些趨勢？
康佳集團半導體設備
2025-01-07 11:21:51
美國開發(fā)新一代BAT激光器：遠超現(xiàn)有EUV光刻效率提升10倍！
美國勞倫斯利弗莫爾國家實驗室(LLNL)正在研究一種效率比傳統(tǒng)CO2 EUV激光器高10倍的激光器，這將為下一代EUV光刻技術發(fā)展奠定基礎。
BAT激光器EUV光刻機
2025-01-06 11:42:54
2024年半導體并購案例盤點，有何亮點？
2024年的半導體的并購案例涉及跨國巨頭到新興企業(yè)的各個層面，多方面展現(xiàn)了半導體行業(yè)對技術創(chuàng)新的追求和對新興市場的戰(zhàn)略布局，半導體的并購活動不僅涉及資本流動，更包括了知識的共享和技術的融合。
半導體設備半導體并購案例
2024-12-27 10:46:11

版權與免責聲明：

凡本站注明“來源：智能制造網”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網絡有限公司-智能制造網合法擁有版權或有權使用的作品，未經本站授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經本網授權使用作品的，應在授權范圍內使用，并注明“來源：智能制造網”。違反上述聲明者，本站將追究其相關法律責任。

本站轉載并注明自其它來源（非智能制造網）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本站贊同其觀點或和對其真實性負責，不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。如其他媒體、平臺或個人從本站轉載時，必須保留本站注明的作品第一來源，并自負版權等法律責任。如擅自篡改為“稿件來源：智能制造網”，本站將依法追究責任。

鑒于本站稿件來源廣泛、數(shù)量較多，如涉及作品內容、版權等問題，請與本站聯(lián)系并提供相關證明材料：聯(lián)系電話：0571-89719789；郵箱：1271141964@qq.com。